帮助宁省南大光电公司，在光刻胶领域成功取得重大突破！
这，就是罗离的最后一步棋。
若想造出芯片，光刻机只是其中之一，作为核心材料的光刻胶同样无比重要。
光刻胶是一种具有化学敏感性的混合溶液，通过各种光化反应，可以实现曝光、显影等光刻工艺，是将掩模版转移到硅晶上的重要载体，在半导体生产中具有弥足轻重的地位。
但，光刻胶长期以来一直被某国集团把持，国产化率严重不足。
恰巧这个集团还刚好是红果等企业的小弟。
就很尴尬。
老子卡光刻机，儿子卡光刻胶，真特么绝了……
光刻机的问题基本已经解决，现在最棘手的，便是光刻胶如何快速实现国产化。
然后，罗离再次出手了。
……
这一天，一道莫名其妙的消息忽然在科技圈走红：
“据最新专利申报显示，宁省南大光电公司已经正式取得了技术突破，成功研制出了ArF高端光刻胶！”
“据业内人士爆料，南大光电研制的ArF光刻胶，完全可以满足国产10nm芯片的量产……”
“这意味着，国产芯片产业链两大技术短板，已经有一个取得了重大突破！”
此消息一出，业内震动。
光刻胶……突破了？
这特么，咋就不声不响的突破了？
第82章 这特么，咋就不声不响的突破了？(4/5)